[实用新型]一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备

摘要

本实用新型涉及塑料镀膜技术领域，其公开了一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，包括磁控溅射真空镀膜机，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体为具有筒体结构的真空腔体，在所述真空腔体内安装有孪生旋转磁控靶，所述的孪生旋转磁控靶的数量有四组且沿所述筒体内壁的周向均匀分布，在位于所述的四组孪生旋转磁控靶的中间位置设置有转架系统，所述的四组孪生旋转磁控靶分隔成四个单独的镀膜空间；所述真空腔体中分别设置有加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块，所述加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块分别设置在相邻的两个镀膜空间之间并与所述的镀膜空间相隔开。本实用新型克服了现有塑料件表面喷涂工艺的弊端，镀膜质量好。

主权项

1.一种用于塑料件表面磁控溅射镀膜的设备，其特征在于，包括磁控溅射真空镀膜机，所述磁控溅射真空镀膜机包括真空腔体，所述真空腔体为具有筒体结构的真空腔体，所述真空腔体的筒体两端设置有封闭门，在所述真空腔体内且平行于所述筒体轴线的方向安装有孪生旋转磁控靶，所述的孪生旋转磁控靶的数量有四组且沿所述筒体内壁的周向均匀分布，在位于所述的四组孪生旋转磁控靶的中间位置设置有用于定位和安装塑料件的转架系统，所述转架系统相对于所述筒体的中心轴线可转动设置，所述的四组孪生旋转磁控靶通过防污隔板相互隔开并使得所述的四组孪生旋转磁控靶分隔成四个单独的镀膜空间；所述真空腔体中分别设置有用于对塑料件进行预热的加热装置、用于对塑料件表面进行真空等离子清洗或表面改性处理的中频离子源模块、用于进行蒸镀的蒸镀模块，所述加热装置、中频离子源模块、蒸镀模块分别设置在相邻的两个镀膜空间之间并与所述的镀膜空间相隔开。