[实用新型]一种LPCVD沉积炉

摘要

本实用新型提供一种LPCVD沉积炉，涉及沉积炉领域。该LPCVD沉积炉，包括底座，所述底座的顶部包括箱体、左支架和右支架，所述箱体的底部与底座的顶部固定连接，所述左支架位于箱体的左侧设置，所述左支架的底部与底座的顶部固定连接，左支架的右侧与箱体的左侧固定连接，右支架位于箱体的右侧设置，右支架的左侧与箱体的右侧固定连接，左支架的顶部包括左卡块，左卡块的底部后侧通过铰链与左支架的顶部后侧转动连接。该LPCVD沉积炉，通过在箱体的两侧设置左支架、左卡块、右支架和右卡块，从而达到了将沉积炉固定的目的，通过在箱体的两侧设置卡炉口和橡胶垫，在箱体的正面设置插板，从而解决了沉积炉体在箱体中不方便取出和放置的问题。

主权项

1.一种LPCVD沉积炉，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的顶部包括箱体（2）、左支架（12）和右支架（18），所述箱体（2）的底部与底座（1）的顶部固定连接，所述左支架（12）位于箱体（2）的左侧设置，所述左支架（12）的底部与底座（1）的顶部固定连接，所述左支架（12）的右侧与箱体（2）的左侧固定连接，所述右支架（18）位于箱体（2）的右侧设置，所述右支架（18）的左侧与箱体（2）的右侧固定连接，所述左支架（12）的顶部包括左卡块（10），所述左卡块（10）的底部后侧通过铰链与左支架（12）的顶部后侧转动连接，所述右支架（18）的顶部包括右卡块（15），所述右卡块（15）的底部后侧通过铰链与右支架（18）的顶部后侧转动连接；所述箱体（2）的内部包括上加热板（9）、沉积炉体（3）、进气管（11）、出气管（16）和下加热板（14），所述上加热板（9）位于箱体（2）的内壁设置，所述上加热板（9）的表面与箱体（2）的内壁卡接，所沉积炉体（3）位于上加热板（9）的下侧设置，所述沉积炉体（3）的左侧与进气管（11）的右端固定连接，所述沉积炉体（3）的右侧与出气管（16）的左端固定连接，所述下加热板（14）位于沉积炉体（3）的下侧设置，所述下加热板（14）的表面与箱体（2）的内壁卡接，所述沉积炉体（3）的内部包括左端盖（8）、载片舟（7）、沉积孔（6）、右端盖（4）和固定块（5），所述固定块（5）位于沉积炉体（3）的内壁底部设置，所述固定块（5）的底部与沉积炉体（3）内壁的底部固定连接，所述固定块（5）的顶部与载片舟（7）的表面底部固定连接，所述左端盖（8）位于载片舟（7）的左侧设置，所述左端盖（8）的内壁与载片舟（7）的表面左侧螺纹连接，所述右端盖（4）位于载片舟（7）的右侧设置，所述右端盖（4）的内壁与载片舟（7）的表面右侧螺纹连接，所述箱体（2）的正面包括插板（22），所述插板（22）位于箱体（2）的正面设置，所述插板（22）的表面与箱体（2）的内壁滑动连接，所述箱体（2）的两侧包括卡炉口（21），所述卡炉口（21）位于箱体（2）的两侧内壁开设，卡炉口（21）的内部包括橡胶垫（23），所述橡胶垫（23）的底部与卡炉口（21）的内壁底部粘接，所述进气管（11）的左端通过卡炉口（21）延伸至箱体（2）的左侧，所述进气管（11）的表面底部与橡胶垫（23）的表面活动连接，所述进气管（11）的表面底部与左支架（12）的顶部滑动连接，所述进气管（11）的表面顶部与左卡块（10）的底部卡接，所述出气管（16）的右端通过卡炉口（21）延伸至箱体（2）的右侧，所述出气管（16）的表面底部与橡胶垫（23）的表面活动连接所述出气管（16）的表面顶部与右卡块（15）的底部卡接，所述出气管（16）的表面底部与右支架（18）的顶部活动连接。