[实用新型]一种气瓶用MOCVD进出气装置有效
申请号: | 201821904057.4 | 申请日: | 2018-11-19 |
公开(公告)号: | CN209210919U | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 肖冬明;吴先明;江林;李登瑞;贾晓东;张振华;王大窝;李兵乐;白玉婷;王良;甄超兴;马庆;许全涛 | 申请(专利权)人: | 金川集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人: | 孙惠娜 |
地址: | 737103*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种气瓶用MOCVD进出气装置,包括进气连接接口、固定管、出气连接接口、上密封固定连接机构、下固定连接机构,所述固定管内部设置输气管,所述输气管底端插入气瓶内,所述固定管上部设置进气连接接口,所述固定管一侧设置出气连接接口,所述进气连接接口和出气连接接口均与所述输气管连接,所述固定管上设置有上密封固定连接机构,所述气瓶的瓶口处设置有下固定连接机构,所述上密封固定连接机构与下固定连接机构相互配合连接。 | ||
搜索关键词: | 固定连接机构 连接接口 固定管 出气 上密封 输气管 进气 进出气装置 瓶用 气瓶 本实用新型 内部设置 配合连接 瓶口处 底端 | ||
【主权项】:
1.一种气瓶用MOCVD进出气装置,其特征在于:包括进气连接接口(1)、固定管(2)、出气连接接口(3)、上密封固定连接机构、下固定连接机构,所述固定管(2)内部设置输气管,所述输气管底端插入气瓶内,所述固定管(2)上部设置进气连接接口(1),所述固定管(2)一侧设置出气连接接口(3),所述进气连接接口(1)和出气连接接口(3)均与所述输气管连接,所述固定管(2)上设置有上密封固定连接机构,所述气瓶的瓶口处设置有下固定连接机构,所述上密封固定连接机构与下固定连接机构相互配合连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于金川集团股份有限公司,未经金川集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821904057.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:蒸汽递送容器组合件
- 下一篇:一种改良结构的石墨舟
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的