[实用新型]石英掩膜结构体有效
| 申请号： | 201821909824.0 | 申请日： | 2018-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN209412300U | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 代瑞娜;张晓军;李炳坤;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜加工技术领域，公开了一种石英掩膜结构体。所述石英掩膜结构体包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及石英掩膜板，所述第二石英掩膜框底部设置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述第一石英掩膜框设置有多个基底孔，所述第二石英掩膜框对应设置有多个正对所述第一石英掩膜板的基底孔的镀膜孔，用于通过脉冲激光对收容在所述基底孔内的基底进行镀膜。本方案可批量对小面积的基底进行镀膜而生成小面积的薄膜材料，避免了现有掩膜板在薄膜生长时边缘模糊效果和重影效果，同时也避免了现有沉积薄膜材料切割成小面积薄膜材料时容易被损坏和污染的情况，提升了薄膜制造的质量、操作便捷性和工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 石英掩膜 基底孔 结构体 镀膜 薄膜材料 基底 沉积薄膜材料 本实用新型 薄膜加工 薄膜生长 薄膜制造 边缘模糊 工作效率 脉冲激光 重影效果 便捷性 掩膜板 正对 切割 收容 污染 | ||
【主权项】：
1.一种石英掩膜结构体，其特征在于，包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及设置在所述第一石英掩膜框和第二第一石英掩膜框之间的石英掩膜板，所述第二石英掩膜框底部设置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述第一石英掩膜框设置有多个用于刚好收容多个小面积基底的基底孔，所述第二石英掩膜框对应设置有多个正对所述第一石英掩膜板的基底孔的镀膜孔，用于通过脉冲激光对收容在所述基底孔内的基底进行镀膜，所述石英掩膜板设置有掩膜板孔，所述镀膜孔的尺寸略小于所述石英掩膜板的尺寸。
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