[实用新型]一种磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201821922516.1 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN209412303U | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 周兴宝 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 曾晨;周放 |
| 地址： | 102209 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射设备，包括柔性连接机构、第一工艺腔、第二工艺腔和控制机构；柔性连接机构包括柔性连接管，柔性连接管的两端分别与第一工艺腔的腔壁和第二工艺腔的腔壁相连接；控制机构被设置为用于控制柔性连接管伸缩，以改变第一工艺腔和第二工艺腔之间的距离。本公开的磁控溅射设备通过控制机构控制柔性连接管的伸缩，改变了第一工艺腔和第二工艺腔之间的距离。承载靶材的阴极整体腔可与第一工艺腔或第二工艺腔一起移动，使得靶材与基片的距离发生改变，达到调整靶基距的目的。本公开的磁控溅射设备可在不打开工艺腔室的条件下通过柔性连接管的伸缩来改变靶基距，从而可在保持工艺腔室的真空状态的前提下调整靶基距。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺腔 柔性连接管 磁控溅射设备 靶基距 伸缩 柔性连接机构 工艺腔室 靶材 腔壁 本实用新型 阴极 真空状态 整体腔 承载 移动 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括柔性连接机构、第一工艺腔、第二工艺腔和控制机构；其中，所述柔性连接机构包括柔性连接管，所述柔性连接管的两端分别与所述第一工艺腔的腔壁和所述第二工艺腔的腔壁相连接；所述控制机构被设置为用于控制所述柔性连接管伸缩，以改变所述第一工艺腔和所述第二工艺腔之间的距离。
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