[实用新型]一种基片承载装置有效
申请号: | 201821949288.7 | 申请日: | 2018-11-23 |
公开(公告)号: | CN209087887U | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 王营营 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/673;H01L21/67 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 曾晨;王立民 |
地址: | 102209 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基片承载装置,包括底板、顶板、连接杆、载板定位杆、基片载板和清洗管;连接杆的两端分别与底板和顶板固定连接,以在底板和顶板之间形成用于承放基片载板的载板承放区;载板定位杆的两端分别与底板和顶板固定连接;基片载板上设有载板定位孔,且基片载板通过载板定位孔穿设在载板定位杆上,以将基片载板定位在载板承放区内;清洗管与底板和/或顶板固定连接,清洗管上设有进液口和清洗口,清洗口与基片载板相对应,以使得自进液口进入的洗液通过清洗口导向基片载板。本公开的基片承载装置的清洗管可将洗液直接导向基片载板,从而将基片载板之间难以通过浸泡方式去除的刻蚀液去掉,有效避免刻蚀液对基片的过刻蚀。 | ||
搜索关键词: | 基片载板 载板 底板 清洗管 承载装置 定位杆 清洗口 承放 定位孔 进液口 刻蚀液 连接杆 洗液 本实用新型 导向基片 直接导向 过刻蚀 去除 浸泡 | ||
【主权项】:
1.一种基片承载装置,其特征在于,包括底板、顶板、连接杆、载板定位杆、基片载板和清洗管;其中,所述连接杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接,以在所述底板和所述顶板之间形成用于承放所述基片载板的载板承放区;所述载板定位杆的两端分别与所述底板和所述顶板固定连接;所述基片载板上设有载板定位孔,且所述基片载板通过所述载板定位孔穿设在所述载板定位杆上,以将所述基片载板定位在所述载板承放区内;所述清洗管与所述底板和/或所述顶板固定连接,所述清洗管上设有进液口和清洗口,所述清洗口与所述基片载板相对应,以使得自所述进液口进入的洗液通过所述清洗口导向所述基片载板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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