[实用新型]一种除膜装置有效
| 申请号： | 201821969508.2 | 申请日： | 2018-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN209045501U | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 葛建云 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李海建 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种除膜装置，包括清洁刷和驱动件，清洁刷对膜层进行清理，驱动件为清洁刷提供清洁动力。针对现有技术中盘刷的刷毛设置于刷盘的上端面，盘刷的转动平面与衬底所在的平面垂直，按压盘刷使盘刷的刷毛与衬底的侧边接触，施加于盘刷的按压力在面积较大的盘刷表面进行分散，导致施加于膜层的摩擦力减小，膜层的清洗效率低的问题；本方案提供的除膜装置，滚刷体的转动轴线与衬底所在的平面垂直，滚刷体的转动圆周与衬底的侧边接触的位置的切线与衬底的侧边平行，按压滚刷体使刷毛与衬底的侧边接触，施加的按压力全部集中于滚刷体与衬底的侧边接触的部分，对按压力的分散作用小，从而增大了施加于膜层的摩擦力，提高了膜层的清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 侧边接触 滚刷体 膜层 盘刷 除膜装置 按压力 清洁刷 施加 刷毛 平面垂直 清洗效率 驱动件 按压 切线 本实用新型 分散作用 转动平面 转动轴线 按压盘 对膜层 上端面 侧边 减小 刷盘 平行 转动 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种除膜装置，其特征在于，所述除膜装置为用于去除CBD工艺中在衬底(3)的侧边上形成的膜层的除膜装置，所述除膜装置包括清洁刷和驱动所述清洁刷转动的驱动件，所述清洁刷包括：滚刷体(1)，所述滚刷体(1)与所述驱动件连接，所述滚刷体(1)的转动轴线与所述衬底(3)所在的平面垂直；刷毛(2)，所述刷毛(2)的一端与所述滚刷体(1)固定连接，所述刷毛(2)的另一端为自由端，所述自由端与所述衬底(3)的侧边接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
