[实用新型]一种用于砷化镓晶片无蜡抛光工艺中的无蜡垫冲压装置

摘要

本实用新型公开了一种用于砷化镓晶片无蜡抛光工艺中的无蜡垫冲压装置，包括底座，所述底座横向中轴线上设有滑槽，所述滑槽的底部的中轴线上设有螺母槽，所述滑槽内设有滑动装置，所述滑槽上设有冲压模盒，所述底座的右侧四个拐角处设有矩阵分布的支撑杆，四个所述支撑杆的顶端设有支撑板，所述支撑板的中心处卡固有气缸，所述支撑板上设有四个贯穿支撑板且呈矩阵分布的滑孔，每个所述滑孔内均设有滑杆，所述滑杆的底部设有下模板，所述滑杆的顶部设有上模板，所述下模板的中心处顶端与气缸的输出端固定连接，所述下模板的的底部的中心处设有冲压模，所述冲压模设在滑槽的正上方，所述上模板设有通过孔，提高了效率，保护了工作人员的安全。

主权项

1.一种用于砷化镓晶片无蜡抛光工艺中的无蜡垫冲压装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)横向中轴线上设有滑槽(3)，所述滑槽(3)的底部的中轴线上设有螺母槽(17)，所述滑槽(3)内设有滑动装置(20)，所述滑槽(3)上设有冲压模盒(14)，所述底座(1)的右侧四个拐角处设有矩阵分布的支撑杆(11)，四个所述支撑杆(11)的顶端设有支撑板(10)，所述支撑板(10)的中心处卡固有气缸(6)，所述支撑板(10)上设有四个贯穿支撑板(10)且呈矩阵分布的滑孔(18)，每个所述滑孔(18)内均设有滑杆(8)，所述滑杆(8)的底部设有下模板(5)，所述滑杆(8)的顶部设有上模板(7)，所述下模板(5)的中心处顶端与气缸(6)的输出端固定连接，所述下模板(5)的底部的中心处设有冲压模(4)，所述冲压模(4)设在滑槽(3)的正上方，所述上模板(7)设有通过孔(15)。/n