[实用新型]晶圆清洗装置有效
申请号: | 201822002990.9 | 申请日: | 2018-11-30 |
公开(公告)号: | CN209045502U | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 张玉静 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种晶圆清洗装置。晶圆清洗装置包括:晶圆卡盘,晶圆卡盘具有夹持部件和承载部件,夹持部件设置于承载部件上,用于夹持待清洗晶圆,并且夹持后的待清洗晶圆与承载部件正对待清洗晶圆的部分存在一预设距离;与晶圆卡盘相对设置的喷嘴,用于向待清洗晶圆远离承载部件一侧的表面喷射清洗剂以清洗待清洗晶圆,并且喷嘴可以在待清洗晶圆的表面上非固定喷射清洗剂。利用本实用新型提供的晶圆清洗装置清洗晶圆时,提高了晶圆的产品良率。 | ||
搜索关键词: | 晶圆 清洗 承载部件 晶圆清洗装置 晶圆卡盘 本实用新型 夹持部件 喷嘴 夹持 清洗剂 喷射清洗剂 表面喷射 产品良率 清洗装置 相对设置 预设距离 非固定 种晶 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆清洗装置,其特征在于,所述装置包括:一晶圆卡盘,包括夹持部件和承载部件,所述夹持部件设置于所述承载部件上,所述夹持部件用于夹持待清洗晶圆,并且夹持后的所述待清洗晶圆与所述承载部件正对所述待清洗晶圆的部分存在一预设距离;与所述晶圆卡盘相对设置的喷嘴,用于当所述夹持部件夹持所述待清洗晶圆时,向所述待清洗晶圆远离所述承载部件一侧的表面喷射清洗剂以清洗所述待清洗晶圆,其中当所述喷嘴向所述待清洗晶圆表面喷射清洗剂时,所述喷嘴在所述待清洗晶圆的表面上非固定喷射清洗剂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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