[实用新型]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201822019604.7 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN209045542U 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/522;H01L23/528
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 李华;崔香丹
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种半导体器件,包括:衬底,一表面上具有结合垫;导电体,凸出于所述结合垫且与所述结合垫连接;及所述导电体顶面设有焊料层以及环绕所述焊料层的环形第一阻挡层,所述焊料层凸出于所述环形第一阻挡层。本实用新型通过在焊料的外表面包覆环状阻挡层,减少了回焊工艺中由于焊料会出现爬锡造成锡量不足而导致的不沾锡的缺陷或焊料量太多导致焊桥缺陷,从而提高产品的良率。
搜索关键词: 焊料层 结合垫 阻挡层 焊料 半导体器件 导电体 本实用新型 外表面包 焊料量 衬底 顶面 焊桥 回焊 良率 爬锡 锡量 环绕
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于,包括:衬底,一表面上具有结合垫;导电体,凸出于所述结合垫且与所述结合垫连接;及所述导电体顶面设有焊料层以及环绕所述焊料层的第一阻挡层,所述焊料层凸出于所述第一阻挡层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201822019604.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top