[实用新型]真空电子束镀膜装置有效
| 申请号： | 201822030867.8 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN209144245U | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 赖奇;廖先杰;肖传海;彭富昌;邹宇;李俊瀚;江思媛;黄双华;范立男 | 申请（专利权）人： | 攀枝花学院;成都天宇坤实机电设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 许泽伟 |
| 地址： | 617000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空电子束镀膜装置，包括电子束炉、前置真空室、加热真空室、后置真空室和冷却真空室；前置真空室连通在电子束炉的进口端，加热真空室连通在前置真空室与电子束炉之间；后置真空室连通在电子束炉的出口端，冷却真空室连通在后置真空室与电子束炉之间。本实用新型对镀膜工件进行镀膜前的单级或多级加热以及镀膜后的多级冷却，通过对镀膜工件的加热提高了镀膜效率，在镀膜后通过冷却调节材料内部晶粒组织结构，避免镀膜氧化，也有利于工件尽快取出，可有效缩短镀膜时间；同时为镀膜工作提供真空环境，避免镀膜材料在空气中氧化成氧化物而失去金属性能，提高了镀膜层的耐腐蚀性、增加了镀膜层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 真空室 镀膜 电子束炉 连通 后置 前置 本实用新型 真空电子束 镀膜工件 镀膜装置 加热真空 冷却真空 镀膜层 晶粒组织结构 氧化成氧化物 材料内部 镀膜材料 镀膜效率 多级加热 多级冷却 耐腐蚀性 真空环境 出口端 进口端 单级 加热 冷却 取出 金属 | ||
【主权项】：
1.真空电子束镀膜装置，其特征在于：包括电子束炉(1)、前置真空室(2)、加热真空室(4)、后置真空室(3)和冷却真空室(5)；所述前置真空室(2)连通在电子束炉(1)的进口端，加热真空室(4)连通在前置真空室(2)与电子束炉(1)之间；所述后置真空室(3)连通在电子束炉(1)的出口端，冷却真空室(5)连通在后置真空室(3)与电子束炉(1)之间；所述电子束炉(1)由至少一个工作腔(11)组成，每个工作腔(11)内设有至少一把电子枪(12)。
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