[实用新型]用于湿制程的药液补充回流装置

摘要

本实用新型提供一种用于湿制程的药液补充回流装置，包括控制单元、机台、液位计、回流阀及补液循环结构。机台包含沉浸槽、回流槽及多个回流管，沉浸槽通过回流管而连通回流槽；液位计设置在沉浸槽中并电性连接控制单元，液位计量测药液的液位高度并传送至控制单元；回流阀安装在回流管上；补液循环结构包括补液管、补液阀及第一水泵，补液管连接在沉浸槽及第一水泵之间，第一水泵电性连接控制单元；借以精确控制药液的高度，达到保持良好湿制程的目的。

主权项

1.一种用于湿制程的药液补充回流装置，其特征在于，包括:一控制单元；一机台，其包含一沉浸槽、一回流槽及多个回流管，该沉浸槽通过这些回流管而连通该回流槽；一液位计，其设置在该沉浸槽中并电性连接该控制单元，该液位计是量测该沉浸槽中一药液的液位高度并传送至该控制单元；至少一个回流阀，其安装在至少其中一个回流管上；一补液循环结构，其包括至少一个补液管、安装在该补液管上的一补液阀及连通该回流槽的一第一水泵，该补液管是连接在该沉浸槽及该第一水泵之间，该第一水泵是电性连接该控制单元。