[实用新型]双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备有效
申请号: | 201822048032.5 | 申请日: | 2018-12-06 |
公开(公告)号: | CN209493624U | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 钟洪伟;刘奎;陈年庚;赵娟;刘子毓 | 申请(专利权)人: | 北京华业阳光新能源有限公司;北京启迪清洁能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;李林 |
地址: | 100080 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备,是在第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位中都布置有拨盘、轨道以及集热管小车,第一镀膜室布置有直流磁控溅射靶,第二镀膜室同时布置有直流磁控溅射靶与中频磁控溅射靶,在第一镀膜室与第二镀膜室之间设置真空通道,第一镀膜室与室外装卸工位之间设置连接通道。使用的时候,第一镀膜室一方面作为过渡室使用,用于在第二镀膜室以及室外装卸工位之间交换集热管小车,另一方面可以完成金属红外反射涂层镀膜,而第二镀膜室可以一直保持在真空状态,并完成选择性吸收涂层镀膜以及减反层镀膜,如此周转使用,能够减小设备规模的前提下,尽量提高生产效率与镀膜质量。 | ||
搜索关键词: | 镀膜室 镀膜 装卸工位 磁控溅射镀膜设备 直流磁控溅射靶 室外 集热管 三工位 多靶 双室 小车 选择性吸收涂层 红外反射涂层 中频磁控溅射 本实用新型 连接通道 设备规模 生产效率 真空通道 真空状态 过渡室 减反层 拨盘 减小 周转 金属 轨道 交换 | ||
【主权项】:
1.一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备,其特征在于,具有第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位,其中:所述第一镀膜室的真空腔体内具有若干根直流磁控溅射靶,在直流磁控溅射靶的中心处同轴布置有第一拨盘,所述第一拨盘的周围设有第一传动齿,在第一拨盘的外周设有第一轨道,第一轨道上的集热管小车能够被所述第一拨盘的第一传动齿带动而在所述第一轨道上移动;所述第二镀膜室的真空腔体内具有数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶,在所述数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶的中心处同轴布置有能够旋转的第二拨盘,所述第二拨盘的周围设有第二传动齿,在第二拨盘的外周设有第二轨道,第二轨道上的集热管小车能够被所述第二拨盘的第二传动齿带动而在所述第二轨道上移动;所述室外装卸工位中部设置有能够旋转的室外拨盘,在室外拨盘的外围设有室外轨道,室外拨盘圆周设有室外传动齿,所述室外传动齿能够带动室外轨道上的集热管小车旋转移动;在第一镀膜室与第二镀膜室之间设有真空通道,在真空通道上设有第一板式真空门,在真空通道内还配置有能够将第一轨道与第二轨道相互连通的交换轨道;在第一镀膜室与室外装卸工位之间设有连接通道,在连接通道上设有第二板式真空门,在连接通道内还配置有能够将第一轨道与室外轨道相互连通的输送轨道。
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