[实用新型]沉积系统有效

专利信息
申请号: 201822053070.X 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN209428602U 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 卢彦勋;陈彦良;大藤彻;谢明达 申请(专利权)人: 捷苙科技股份有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/30
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 董科
地址: 中国台湾苗粟*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型提供一种沉积系统:包括沉积设备、控制中心、以及设置在沉积设备内的外延成长监控设备、翘曲变化监控设备与温度监控设备。沉积设备用于对晶圆进行外延成长以生成外延层;温度监控设备用于侦测沉积设备内的温度,以生成温度信息;翘曲变化监控设备用于侦测晶圆的翘曲度,以生成翘曲度信息;外延成长监控设备用于侦测外延成长工艺的情形,以生成外延成长信息;控制中心,与沉积设备、温度监控设备、翘曲变化监控设备与外延成长监控设备电性连接,接收并处理外延成长信息、翘曲度信息及温度信息。
搜索关键词: 沉积设备 温度监控设备 变化监控 监控设备 翘曲度 翘曲 侦测 沉积系统 成长信息 控制中心 温度信息 晶圆 外延成长工艺 本实用新型 电性连接 外延层
【主权项】:
1.一种沉积系统,其特征在于,包括沉积设备,用于对晶圆进行外延成长工艺以形成外延层;温度监控设备,用于侦测所述沉积设备内的温度,以生成温度信息;翘曲变化监控设备,用于侦测所述晶圆的翘曲度,以生成翘曲度信息;外延成长监控设备,用于侦测所述外延成长工艺的情形,以生成外延成长信息;以及控制中心,与所述沉积设备、所述温度监控设备、所述翘曲变化监控设备与所述外延成长监控设备电性连接,接收并处理所述外延成长信息、所述翘曲度信息及所述温度信息;其中,所述温度监控设备、所述翘曲变化监控设备及外延成长监控设备是设置在所述沉积设备内。
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