[实用新型]背照式图像传感器有效

专利信息
申请号: 201822089577.0 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN209282203U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 吕寅根 申请(专利权)人: DBHiTek株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人: 余文娟
地址: 韩国首尔*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种背照式图像传感器,包括置于衬底中的电荷积累区域,设置在衬底的前侧表面上的绝缘层,设置在绝缘层上对应于电荷积累区域的光反射图案,设置在衬底的背侧表面上的抗反射层,设置在抗反射层上并具有对应于电荷积累区域的开口的光阻图案,设置在光阻图案上的滤色层,以及设置在滤色层上的微透镜阵列。
搜索关键词: 电荷积累区域 衬底 绝缘层 背照式图像传感器 光阻图案 抗反射层 滤色层 光反射图案 微透镜阵列 背侧表面 前侧表面 开口
【主权项】:
1.一种背照式图像传感器,包括:置于衬底中的电荷积累区域;设置在所述衬底的前侧表面上的绝缘层;设置在所述绝缘层上对应于所述电荷积累区域的光反射图案;设置在所述衬底的背侧表面上的抗反射层;设置在所述抗反射层上并具有对应于所述电荷积累区域的开口的光阻图案;设置在所述光阻图案上的滤色层;以及设置在所述滤色层上的微透镜阵列。
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