[实用新型]一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列有效

专利信息
申请号: 201822131919.0 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN209418524U 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 高丹;张军 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/18;H01L27/144
代理公司: 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 代理人: 林伟斌;凌衍芬
地址: 510632 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列,所述雪崩光电二极管为SACM型APD,包括衬底以及设于衬底底部的阳极,所述衬底上表面设有凹槽,所述凹槽中自下而上依次包括:阴极、非耗尽层、倍增层和场控层,且阴极、非耗尽层、倍增层以及场控层与所述衬底之间绝缘;所述场控层上覆有吸收层,且所述吸收层与所述衬底相接;所述吸收层表面覆有规则排列的亚波长结构层;所述衬底为p+型硅片;所述非耗尽层为n+型高掺杂浓度和高缺陷的多晶硅;所述倍增层为π型的硅外延层;所述场控层为p型的硅外延层;所述吸收层为π型硅外延层。与现有技术比较,本实用新型提供了一种可以提高蓝光量子效率和灵敏度,并具有高增益的硅基APD。
搜索关键词: 衬底 吸收层 场控 硅外延层 倍增层 耗尽层 硅基 雪崩光电二极管阵列 阴极 本实用新型 蓝光 雪崩光电二极管 衬底上表面 光量子效率 亚波长结构 阳极 规则排列 多晶硅 高掺杂 高增益 灵敏度 硅片 绝缘
【主权项】:
1.一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列,其特征在于,所述雪崩光电二极管为SACM型APD,包括衬底以及设于衬底底部的阳极,所述衬底上表面设有凹槽,所述凹槽中自下而上依次包括:阴极、非耗尽层、倍增层和场控层,且阴极、非耗尽层、倍增层以及场控层与所述衬底之间绝缘;所述场控层上覆有吸收层,且所述吸收层与所述衬底相接;所述吸收层表面覆有亚波长结构层;所述衬底为p+型硅片;所述非耗尽层为n+型硅外延层;所述倍增层为π型的硅外延层;所述场控层为p型的硅外延层;所述吸收层为π型硅外延层。
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