[实用新型]一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列有效
申请号: | 201822131919.0 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN209418524U | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 高丹;张军 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/18;H01L27/144 |
代理公司: | 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 | 代理人: | 林伟斌;凌衍芬 |
地址: | 510632 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列,所述雪崩光电二极管为SACM型APD,包括衬底以及设于衬底底部的阳极,所述衬底上表面设有凹槽,所述凹槽中自下而上依次包括:阴极、非耗尽层、倍增层和场控层,且阴极、非耗尽层、倍增层以及场控层与所述衬底之间绝缘;所述场控层上覆有吸收层,且所述吸收层与所述衬底相接;所述吸收层表面覆有规则排列的亚波长结构层;所述衬底为p+型硅片;所述非耗尽层为n+型高掺杂浓度和高缺陷的多晶硅;所述倍增层为π型的硅外延层;所述场控层为p型的硅外延层;所述吸收层为π型硅外延层。与现有技术比较,本实用新型提供了一种可以提高蓝光量子效率和灵敏度,并具有高增益的硅基APD。 | ||
搜索关键词: | 衬底 吸收层 场控 硅外延层 倍增层 耗尽层 硅基 雪崩光电二极管阵列 阴极 本实用新型 蓝光 雪崩光电二极管 衬底上表面 光量子效率 亚波长结构 阳极 规则排列 多晶硅 高掺杂 高增益 灵敏度 硅片 绝缘 | ||
【主权项】:
1.一种增强蓝光型硅基雪崩光电二极管阵列,其特征在于,所述雪崩光电二极管为SACM型APD,包括衬底以及设于衬底底部的阳极,所述衬底上表面设有凹槽,所述凹槽中自下而上依次包括:阴极、非耗尽层、倍增层和场控层,且阴极、非耗尽层、倍增层以及场控层与所述衬底之间绝缘;所述场控层上覆有吸收层,且所述吸收层与所述衬底相接;所述吸收层表面覆有亚波长结构层;所述衬底为p+型硅片;所述非耗尽层为n+型硅外延层;所述倍增层为π型的硅外延层;所述场控层为p型的硅外延层;所述吸收层为π型硅外延层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于暨南大学,未经暨南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201822131919.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种倒装型可见光增敏硅基雪崩光电二极管阵列
- 下一篇:一种湿法设备的补液系统
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的