[实用新型]一种用于DBC半导体基板氮气炉冷却水的循环水池有效

专利信息
申请号: 201822134518.0 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN209926875U 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 游炯;刘瑞生;田茂标;周富;徐勇;黎菊英;蒲小燕;邓小燕;龚俊红;刘超莉;丁鹏飞 申请(专利权)人: 成都万士达瓷业有限公司
主分类号: F27D9/00 分类号: F27D9/00
代理公司: 51211 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 代理人: 苏丹;郑发志
地址: 611332 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种用于DBC半导体基板氮气炉冷却水的循环水池,其特征在于包括:水池主体、补水管、补水口、出水口、出水管、氮气炉冷却区、进水管和进水溢流口,所述水池主体上设置有多根补水管,所述补水管上设置有补水口,所述水池主体的一侧设置有出水口,所述出水口与出水管连通,所述出水管与氮气炉冷却区相连通,所述进水管设置在氮气炉冷却区的一侧与水池主体的另一侧连通。
搜索关键词: 水池主体 氮气炉 补水管 出水口 冷却区 补水口 出水管 进水管 半导体基板 本实用新型 出水管连通 循环水池 冷却水 溢流口 进水 连通
【主权项】:
1.一种用于DBC半导体基板氮气炉冷却水的循环水池,其特征在于包括:水池主体(1)、补水管(2)、补水口(3)、出水口(4)、出水管(5)、氮气炉冷却区(6)、进水管(7)和进水溢流口(8),所述水池主体(1)上设置有多根补水管(2),所述补水管(2)上设置有补水口(3),所述水池主体(1)的一侧设置有出水口(4),所述出水口(4)与出水管(5)连通,所述出水管(5)与氮气炉冷却区(6)相连通,所述进水管(7)设置在氮气炉冷却区(6)的一侧与水池主体(1)的另一侧连通。/n
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