[实用新型]一种电弧离子镀膜装置有效
| 申请号： | 201822141572.8 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN209428589U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 冯森;蹤雪梅;何冰 | 申请（专利权）人： | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 刘艳艳;董建林 |
| 地址： | 221004 江苏省徐州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种电弧离子镀膜装置，包括真空室、霍尔离子源、电弧离子源；电弧离子源采用脉冲放电的形式激发靶材，沉积温度低，涂层表面的光洁度好，能够在低温条件下对弹性体制品进行镀膜。装置有两个或多个电弧离子源，每个离子源与真空室侧壁成一定倾斜角度安装，能够保证镀膜的均匀性以及镀膜速率，满足产业化批量生产的需求。本实用新型具有镀膜温度低、镀膜均匀性好、镀膜速率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 电弧离子源 电弧离子镀膜装置 本实用新型 光洁度 弹性体制品 镀膜均匀性 霍尔离子源 真空室侧壁 低温条件 角度安装 脉冲放电 涂层表面 产业化 均匀性 离子源 真空室 靶材 沉积 激发 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种电弧离子镀膜装置，其特征在于，包括真空室、霍尔离子源、电弧离子源；所述真空室，作为工件镀膜的操作空间，并提供真空体系；所述霍尔离子源设置有霍尔离子源补偿器，用于发射热电子强化离子，对工件表面进行清洗活化，去除工件表面的杂质；所述电弧离子源包括两个或多个电弧离子源；所述电弧离子源采用脉冲电源供电，产生脉冲电弧激发靶材，用于在真空室内产生靶材离子，均匀的沉积在工件的表面。
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