[实用新型]一种平衡磁场溅射镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201822169154.X 申请日: 2018-12-23
公开(公告)号: CN209508395U 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 申屠江民;祝宇;龚阳 申请(专利权)人: 浙江莱宝科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321016 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供一种基于平衡磁场的溅射镀膜装置,包括水平设置的阴极靶材,所述阴极靶材为长方形板状结构,阴极靶材上方50‑100mm的范围内设有基片,阴极靶材下方设置有磁钢,所述磁钢包括磁钢座与磁极。通过磁钢的磁极间的作用,在阴极靶材上表面形成拱形磁场。在所述磁极下方设置有导磁块,所述导磁块可以使得磁场耦合于靶面上,提高镀膜效率与靶材的利用率。
搜索关键词: 阴极靶材 磁极 磁钢 溅射镀膜装置 平衡磁场 导磁块 长方形板状结构 本实用新型 磁场耦合 镀膜效率 水平设置 磁钢座 上表面 拱形 靶材 磁场
【主权项】:
1.一种平衡磁场溅射镀膜装置,包括:水平设置的阴极靶材(2)、磁钢(1)与基片(3),所述阴极靶材(2)为长方形板状结构,所述基片(3)设在阴极靶材(2)上方50‑100mm的范围内,阴极靶材(2)下方设置有磁钢(1),所述磁钢(1)包括磁钢座与磁极,所述磁钢(1)在阴极靶材(2)上表面形成拱形磁场;其特征在于,在所述磁极下方设置有导磁块(4)。
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