[实用新型]光束成像装置有效
| 申请号： | 201822196530.4 | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN209103032U | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 田立飞;刘敬伟 | 申请（专利权）人： | 中科天芯科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李博洋 |
| 地址： | 100009 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光束成像装置，包括：图形层、设置于图形层两侧的包层、以及直接接触设置于图形层一侧的包层表面上的电极层。该光束成像装置，图形层的两侧设置有包层，电极层直接设置于图形层一侧的包层上表面，与包层直接接触，制备过程简单、便捷、易操作。 | ||
| 搜索关键词： | 图形层 包层 光束成像 电极层 本实用新型 两侧设置 直接设置 制备过程 上表面 | ||
【主权项】：
1.一种光束成像装置，其特征在于，包括：图形层(10)、设置于所述图形层(10)两侧的包层(20)、以及直接接触设置于所述图形层(10)一侧的包层(20)表面上的电极层(30)。
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