[实用新型]一种薄膜沉积工艺控制系统有效
| 申请号： | 201822206910.1 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN209854239U | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 张晓军 | 申请（专利权）人： | 深圳市矩阵新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 44319 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福田街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种薄膜沉积工艺控制系统，用于薄膜沉积的工艺控制，所述薄膜沉积装置包括激光器、真空腔，靶材模块以及基片加热组件，所述测试系统包括：厚度测试模块以及与所述厚度测试模块信号连接的计算机设备；所述厚度测试模块包括设置在所述真空腔内的晶振测试组件以及与所述晶振测试组件传动连接的水平驱动装置，所述水平驱动装置用于驱动所述晶振测试组件在所述真空腔内预设的测试网格中水平移动，所述晶振测试组件用于测试每个网格点的薄膜生长厚度，所述测试网格位于薄膜生长平面上。本实用新型能提高薄膜生长效率，使得大面积薄膜沉积的可控性和重复性提供保障。 | ||
| 搜索关键词： | 测试组件 晶振 薄膜生长 厚度测试 真空腔 水平驱动装置 本实用新型 测试 网格 大面积薄膜沉积 薄膜沉积工艺 薄膜沉积装置 薄膜制造技术 计算机设备 靶材模块 薄膜沉积 测试系统 传动连接 工艺控制 加热组件 控制系统 模块信号 激光器 可控性 网格点 预设 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜沉积工艺控制系统，用于薄膜沉积的工艺控制，包括激光器、真空腔，靶材模块以及基片加热组件，其特征在于，还包括：厚度测试模块以及与所述厚度测试模块信号连接的计算机设备；/n所述厚度测试模块包括设置在所述真空腔内的晶振测试组件以及与所述晶振测试组件传动连接的水平驱动装置，所述水平驱动装置用于驱动所述晶振测试组件在所述真空腔内预设的测试网格中水平移动，所述晶振测试组件用于测试所述测试网格中每个网格点的薄膜生长厚度，所述测试网格位于薄膜生长平面上。/n
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