[实用新型]离子注入设备有效
| 申请号： | 201822235084.3 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN209804588U | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 徐义;张时阁 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L31/18 |
| 代理公司： | 11477 北京尚伦律师事务所 | 代理人： | 谢丽莎 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种离子注入设备。所述离子注入设备应用于铜铟镓硒(CIGS)薄膜制备装置，所述制备装置包括工艺腔，所述工艺腔用于在基板上形成CIGS薄膜，所述离子注入设备包括：离子容置腔，位于所述工艺腔内，所述离子容置腔包括释放口，所述释放口位于所述形成有CIGS薄膜的基板的下方；离子发生构件，位于所述离子容置腔内，用于在所述离子容置腔内产生碱金属离子；离子加速构件，位于所述工艺腔内，用于对所述离子发生构件产生的所述碱金属离子进行加速，使得所述碱金属离子从所述释放口射出，射向所述CIGS薄膜。该技术方案可以精确控制所需的碱金属离子的分布梯度和浓度，得到完美分布的碱金属离子梯度，增强CIGS薄膜的性能，节省能耗。 | ||
| 搜索关键词： | 碱金属离子 工艺腔 容置腔 离子注入设备 离子 释放口 离子发生 基板 薄膜制备装置 本实用新型 分布梯度 离子加速 铜铟镓硒 制备装置 射出 能耗 应用 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入设备，应用于铜铟镓硒CIGS薄膜制备装置，所述制备装置包括工艺腔，所述工艺腔用于在基板上形成CIGS薄膜以得到CIGS薄膜基板，其特征在于，所述离子注入设备包括：/n离子容置腔，位于所述工艺腔内，所述离子容置腔包括释放口，所述释放口位于所述CIGS薄膜基板的下方，朝向所述CIGS薄膜；/n离子发生构件，位于所述离子容置腔内，用于在所述离子容置腔内产生碱金属离子；/n离子加速构件，位于所述工艺腔内，用于对所述离子发生构件产生的所述碱金属离子进行加速，使得所述碱金属离子从所述释放口射出，射向所述CIGS薄膜。/n
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