[发明专利]高压碳化硅肖特基二极管倒装芯片阵列有效

专利信息
申请号: 201880000328.X 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN108701694B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 王兆伟;丘树坚 申请(专利权)人: 香港应用科技研究院有限公司
主分类号: H01L27/08 分类号: H01L27/08;H01L29/16;H01L29/872
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国香港新界沙田香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 一种碳化硅芯片阵列包括碳化硅衬底、在碳化硅衬底的顶部的碳化硅层、连接到碳化硅衬底的第一金属接触件、以及分别连接到第一部分和第二部分的两个第二金属接触件。碳化硅层比碳化硅衬底更薄,并具有更低的掺杂度。碳化硅层包括彼此分离的第一部分和第二部分。每个第二金属接触件与第一金属接触件都形成一个半导体器件。第一部分和第二部分中的至少一个包含一个相对于碳化硅衬底而倾斜的侧面。这种结构提高了击穿电压,并降低了所得碳化硅二极管阵列的漏电流。
搜索关键词: 高压 碳化硅 肖特基 二极管 倒装 芯片 阵列
【主权项】:
1.一种碳化硅芯片阵列,包括:a)碳化硅衬底;b)碳化硅层,其在所述碳化硅衬底的顶部,所述碳化硅层比所述碳化硅衬底更薄,并具有更低的掺杂度;所述碳化硅层包括彼此分离的第一部分和第二部分;c)第一金属接触件,其连接到所述碳化硅衬底;d)两个第二金属接触件,其分别连接到所述第一部分和所述第二部分,每个所述第二金属接触件与所述第一金属接触件都形成一个半导体器件;其中所述第一部分和所述第二部分中的至少一个包含一个相对于所述碳化硅衬底而倾斜的侧面。
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