[发明专利]钽溅射靶有效
| 申请号： | 201880001011.8 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN109154074B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 永津光太郎 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C27/02;H01L21/285 |
| 代理公司： | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人： | 张俊国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种有助于提高大功率溅射时的膜厚均匀性的钽溅射靶。该钽溅射靶，其纯度为99.99质量％以上，溅射面的维式硬度的平均值为85～110Hv，并且，满足以下的(1)～(2)两个条件：(1)对垂直于溅射面的断面进行EBSP测量时，局部角度方位差(KAM值)的平均值为0.2°～2.8°；(2)对垂直于溅射面的断面进行EBSP测量时，在与溅射面的法线方向相对的方位差为15°以内进行取向的{100}面的取向面积比的平均值为20％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种钽溅射靶，其纯度为99.99质量％以上，溅射面的维式硬度的平均值为85～110Hv，并且，满足以下的(1)～(2)两个条件：(1)对垂直于溅射面的断面进行EBSP测量时，局部角度方位差(KAM值)的平均值为0.2°～2.8°；(2)对垂直于溅射面的断面进行EBSP测量时，在与溅射面的法线方向相对的方位差为15°以内进行取向的{100}面的取向面积比的平均值为20％以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX金属株式会社，未经JX金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880001011.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有分级夹层的溅射靶组件和制造方法
- 下一篇：氧化铝膜的形成方法
- 同类专利
- 专利分类
