[发明专利]对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测有效
申请号: | 201880003957.8 | 申请日: | 2018-08-13 |
公开(公告)号: | CN109863424B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | R·斯特德曼布克;E·勒斯尔;W·吕腾 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G01T1/20 | 分类号: | G01T1/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 孟杰雄;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在常规的相衬X射线成像系统中,源光栅G0生成照射对象的部分相干线源的阵列以及在该阵列之后的相位光栅G1。该相位光栅的周期性在更远离X射线源的某些情况下自成像,并且在由常规的X射线探测器探测到解调的条纹强度之前由能机械移动的第三吸收分析器光栅G2进行采样。本申请提出使用结构化闪烁体并结合电子信号读出方法直接解调条纹强度,该结构化闪烁体具有与光学探测器层的子像素对齐的多个平板。因此,能够从相衬X射线成像系统中省略能机械移动的第三吸收分析器光栅G2。 | ||
搜索关键词: | 射线 成像 暗场 中的 入射 条纹 图样 探测 | ||
【主权项】:
1.一种用于对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的入射X射线条纹图样进行采样的X射线探测器(24),包括:结构化闪烁体层(26),其包括多个平板(261、……、26N),所述多个平板被布置为对所述入射条纹图样进行采样并将所述入射条纹图样转换成多个光学平板信号;光学探测器层(30),其与所述结构化闪烁体层光学通信,所述光学探测器层包括多个子像素(301、……、30N),其中,每个子像素与所述结构化闪烁体层的相应平板对齐,以探测从所述结构化闪烁体层的所述相应平板发射的相应光学平板信号;以及信号组合装置(32),其被布置为以电子方式从所述多个子像素读出表示所述条纹图样的信号;其中,所述子像素还包括多个光学探测单元(34),所述多个光学探测单元被配置为基于相关光学平板信号的存在来提供多个探测信号;并且其中,所述信号组合装置(32)被配置为使得能够通过生成至少第一输出信号和第二输出信号作为所述光学探测器层(30)的所述光学探测单元的所述探测信号的组合来在第一探测方向和第二探测方向上采集相衬X射线图像和/或暗场X射线图像,而无需调整所述X射线探测器(24)的位置,其中,所述至少第一输出信号和第二输出信号均与因在所述结构化闪烁体层的相应平板上接收到所述入射X射线条纹图样而引起的空间信号幅度成比例,并且其中,所述X射线探测器的像素信号包括以由所述平板的宽度定义的条纹采样分辨率从至少两个相邻子像素采集的至少第一输出信号(31A)和第二输出信号(31B)。
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