[发明专利]含有含全氟(聚)醚基化合物的表面处理剂有效

专利信息
申请号: 201880004573.8 申请日: 2018-01-11
公开(公告)号: CN110023450B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 三桥尚志;能势雅聪;小泽香织;山下恒雄 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C09K3/18 分类号: C09K3/18;C08G65/04;C08G65/325;C08L71/00;C09D5/16;C09D7/40;C09D171/02
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 含有含全氟(聚)醚基的硅烷化合物和含全氟(聚)醚基化合物的表面处理剂。该含全氟(聚)醚基化合物在分子内具有自由基捕捉基或紫外线吸收基。
搜索关键词: 含有 含全氟 化合物 表面 处理
【主权项】:
1.一种表面处理剂,其特征在于:含有选自以下式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)和(D2)中的至少1种的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物、以及以下式(1)所示的含全氟(聚)醚基化合物,(Rf2‑PFPE)β1’‑X3‑(SiR23n1R243‑n1)β1…(B1)(R243‑n1R23n1Si)β1‑X3‑PFPE‑X3‑(SiR23n1R243‑n1)β1…(B2)(Rf2‑PFPE)γ1’‑X4‑(SiRa1k1Rb111Rc1m1)γ1…(C1)(Rc1m1Rb1l1Ra1k1Si)γ1‑X4‑PFPE‑X4‑(SiRa1k1Rb1l1Rc1m1)γ1…(C2)(Rf2‑PFPE)δ1’‑X5‑(CRd1k2Re1l2Rf1m2)δ1…(D1)(Rf1m2Re112Rd1k2C)δ1‑X5‑PFPE‑X5‑(CRd1k2Re1l2Rf1m2)61…(D2)式中,PFPE在每次出现时分别独立地表示式:‑(OC6F12)a‑(OC5F10)b‑(OC4F8)c‑(OC3F6)d一(OC2F4)e‑(OCF2)f‑所示的基团,式中,a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数,a、b、c、d、e和f之和至少为1,标注a、b、c、d、e或f且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的;Rf2在每次出现时分别独立地表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1~16的烷基;R23在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;R24在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1~22的烷基;R21在每次出现时分别独立地表示氢原子或卤原子;R22在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;n1在每个(‑SiR23n1R243‑n1)单元中独立地为0~3的整数;其中,在式(A1)、(A2)、(B1)和(B2)各式中,至少1个n1为1~3的整数;X1分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;X2在每次出现时分别独立地表示单键或2价的有机基团;t在每次出现时分别独立地为1~10的整数;α1分别独立地为1~9的整数;α1′分别独立地为1~9的整数;X3分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;β1分别独立地为1~9的整数;β1′分别独立地为1~9的整数;X4分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;γ1分别独立地为1~9的整数;γ1′分别独立地为1~9的整数;Ra1在每次出现时分别独立地表示‑Z1‑SiR11p1R12q1R13r1;Z1在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团;R11在每次出现时分别独立地表示Ra1′;Ra1′的含义与Ra1相同;Ra1中,经由Z1基连结成直链状的Si最多为5个;R12在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;R13在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;p1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r1在每次出现时分别独立地为0~3的整数;其中,在式(C1)和(C2)的各式中,至少1个q1为1~3的整数;Rb1在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;Rc1在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;k1在每次出现时分别独立地为1~3的整数;l1在每次出现时分别独立地为0~2的整数;m1在每次出现时分别独立地为0~2的整数;X5分别独立地表示单键或2~10价的有机基团;δ1分别独立地为1~9的整数;δ1′分别独立地为1~9的整数;Rd1在每次出现时分别独立地表示‑Z2‑CR51p2R52q2R53r2;Z2在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团;R51在每次出现时分别独立地表示Rd1′;Rd1′的含义与Rd1相同;Rd1中,经由Z2基连结成直链状的C最多为5个;R52在每次出现时分别独立地表示‑Z3‑SiR55n2R563‑n2;Z3在每次出现时分别独立地表示2价的有机基团;R55在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团;R56在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;n2在每个(‑Z3‑SiR55n2R563‑n2)单元中独立地表示0~3的整数;其中,在式(D1)和(D2)的各式中,至少1个n2为1~3的整数;R53在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;p2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;q2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;r2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;Re1在每次出现时分别独立地表示‑Z3‑SiR55n2R563‑n2;Rf1在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基;k2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;l2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;m2在每次出现时分别独立地为0~3的整数;其中,在式(D1)和(D2)的各式中,至少1个q2为2或3、或者至少1个12为2或3,(Rf1‑PFPE)ε1’‑X‑(Rg)ε1…(1)式中,Rf1的含义与Rf2相同;PFPE的含义同上;X为2~10价的有机基团;Rg为自由基捕捉基或紫外线吸收基;ε1为1~9的整数;ε1′为1~9的整数。
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