[发明专利]偏振光照射装置以及偏振光照射方法在审
| 申请号： | 201880004973.9 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN110073292A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 新井敏成;竹下琢郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李逸雪 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 通过光取向处理，能够生成液晶分子的预倾斜角变小的取向膜。从光源(211)出射并透过形成于掩模(32)的透光区域的偏振光被向载置于工作台(11)的曝光对象物(W)照射。偏振光从相对于与工作台(11)的上表面大致正交的方向倾斜大致50度至大致70度的方向，向曝光对象物(W)照射。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振光 曝光对象物 工作台 照射 偏振光照射装置 光取向处理 偏振光照射 透光区域 液晶分子 预倾斜角 取向膜 上表面 正交的 出射 掩模 光源 | ||
【主权项】：
1.一种偏振光照射装置，其特征在于，具备：光源，出射偏振光；掩模，形成有使从所述光源出射的偏振光透过的透光区域；和工作台，载置被照射透过所述透光区域后的偏振光的曝光对象物，所述光源从相对于与所述工作台的上表面大致正交的方向倾斜大致50度至大致70度的方向，向所述曝光对象物照射偏振光。
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