[发明专利]复合镀层、镀膜设备及镀膜方法有效
| 申请号： | 201880005004.5 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN110088353B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 陈国安;方彬;王浩颉;赵玉刚 | 申请（专利权）人： | 三环瓦克华（北京）磁性器件有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 武玉琴;冷文燕 |
| 地址： | 102200*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种形成于钕铁硼稀土磁体表面的复合镀层、镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括镀膜室，镀膜室的顶部安装有靶材，其特征在于，靶材包括第一靶材和第二靶材；第一靶材为Nd靶材，或者为Pr靶材，或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材；第二靶材为Tb靶材；第一靶材位于第二靶材的前方。本发明的镀膜设备及镀膜方法，提高了重稀土金属的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 镀层 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设备，包括镀膜室，所述镀膜室的顶部安装有靶材，其特征在于，所述靶材包括第一靶材和第二靶材；所述第一靶材为Nd靶材，或者为Pr靶材，或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材；所述第二靶材为Tb靶材；所述第一靶材位于所述第二靶材的前方。
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