[发明专利]化学增幅型光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜有效
| 申请号： | 201880006629.3 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN110178086B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 林敏映;金容美;金智慧 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/033 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵丹;冷永华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物能够使由所述组合物获得的光致抗蚀剂的开裂最小化并提高对基底的粘合性和感光度。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型光致抗蚀剂 组合 使用 光致抗蚀剂膜 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物，包含：由以下化学式1表示的基于三唑的增塑剂；和可碱性显影树脂，[化学式1]![]()
其中，在化学式1中，A1为C1至C10亚烷基或由以下化学式2表示的聚亚烷基氧基，X1为C1至C5烷基、羟基或羧基，R1为化合价为1至5的有机官能团，R2为氢、C1至C5烷基、羟基或羧基，以及p为1至5的整数，[化学式2]![]()
其中，在化学式2中，R3为C1至C5亚烷基，以及q为1至50的整数。
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