[发明专利]沸石膜和分离膜在审
| 申请号： | 201880007165.8 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN110198916A | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 石川真二;俵山博匡;奥野拓也;斋藤崇广;近江靖则;上野恭平 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社;国立大学法人岐阜大学 |
| 主分类号： | C01B39/38 | 分类号： | C01B39/38;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;张泉陵 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种沸石膜，其为在无机氧化物多孔基材上形成的MFI型沸石膜，其中，在所述沸石膜的通过以CuKα射线作为射线源的X射线衍射测定得到的衍射图谱中，在以衍射角7.3°～8.4°处显示的、晶格面归属于011和/或101面的衍射峰的强度为基准时，在衍射角8.4°～9.0°处显示的、晶格面归属于200和/或020面的衍射峰的强度为0.3以上。 | ||
| 搜索关键词： | 沸石膜 晶格面 衍射峰 衍射角 归属 无机氧化物 多孔基材 分离膜 基准时 射线源 衍射 图谱 | ||
【主权项】：
1.一种沸石膜，其为在无机氧化物多孔基材上形成的MFI型沸石膜，其中，在所述沸石膜的通过以CuKα射线作为射线源的X射线衍射测定得到的衍射图谱中，在以衍射角7.3°～8.4°处显示的、晶格面归属于011和/或101面的衍射峰的强度为基准时，在衍射角8.4°～9.0°处显示的、晶格面归属于200和/或020面的衍射峰的强度为0.3以上。
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