[发明专利]用于形成微细相分离图案的下层膜形成用组合物有效

专利信息
申请号: 201880007435.5 申请日: 2018-01-16
公开(公告)号: CN110191930B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 水落龙太;染谷安信;若山浩之;坂本力丸 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: C09D125/08 分类号: C09D125/08;C08F212/12;C08F220/18;C08L25/16;C08L33/10;C09D5/00;C09D133/06;H01L21/027
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 孙丽梅;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供耐溶剂性优异,能够使在基板上形成的包含嵌段共聚物的层的微相分离结构相对于基板垂直诱导的下层膜形成用组合物。一种下层膜形成用组合物,其包含共聚物,上述共聚物包含(A)来源于含有叔丁基的苯乙烯化合物的单元结构,(B)来源于不含有羟基的含有芳香族结构的乙烯基化合物、并且除上述(A)以外的单元结构,(C)来源于含有(甲基)丙烯酰基且不含有羟基的化合物的单元结构,(D)来源于含有交联形成基的化合物的单元结构,相对于共聚物整体的共聚比为,(A)25~90摩尔%,(B)0~65摩尔%,(C)0~65摩尔%,(D)10~20摩尔%,并且(A)+(B)+(C)之中,包含芳香族结构的单元结构为81~90摩尔%。
搜索关键词: 用于 形成 微细 分离 图案 下层 组合
【主权项】:
1.一种下层膜形成用组合物,是为了使在基板上形成的包含嵌段共聚物的层相分离而使用的下层膜形成用组合物,该组合物包含下述所示的共聚物,所述共聚物包含:(A)来源于含有叔丁基的苯乙烯化合物的单元结构,(B)来源于不含有羟基的含有芳香族结构的乙烯基化合物、并且除所述(A)以外的单元结构,(C)来源于含有(甲基)丙烯酰基且不含有羟基的化合物的单元结构,(D)来源于含有交联形成基的化合物的单元结构,相对于该共聚物整体的共聚比为,(A)25~90摩尔%,(B)0~65摩尔%,(C)0~65摩尔%,(D)10~20摩尔%,并且(A)+(B)+(C)之中,包含芳香族结构的单元结构为81~90摩尔%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社,未经日产化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880007435.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top