[发明专利]物理气相沉积处理系统的靶材冷却有效
| 申请号： | 201880007540.9 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN110382733B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 王伟;卡尔蒂克·萨哈;维希瓦·库马尔·帕迪 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开物理气相沉积靶材组件和冷却物理气相沉积靶材的方法。示例性靶材组件包括流动图案，流动图案包含流体地连接至入口端和出口端的多个列和弯曲部。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 处理 系统 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积靶材组件，包括：源材料；背板，所述背板具有前侧和背侧，所述背板经配置以在所述背板的前侧上支撑所述源材料；和冷却管，所述冷却管包含入口端、出口端和在所述入口端与所述出口端之间的多个弯曲部，所述入口端配置成连接至冷却流体，所述出口端流体地耦接至所述入口端，所述冷却管配置成置于邻近所述背板的所述背侧，以在物理气相沉积工艺期间冷却所述背板和所述源材料。
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