[发明专利]具有过程监测设施的加层制造设备在审

专利信息
申请号: 201880007895.8 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN110291440A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: W.T.理查森 申请(专利权)人: 信实精确有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;B33Y30/00;B33Y40/00;B29C64/153;B29C64/35;B22F3/105
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 任霄;陈浩然
地址: 英国哈德*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种加层制造设备(10)包括:壳体(11),所述壳体(11)界定真空腔室(12)并且具有用于监测所述腔室的待执行加层制造的区域(13)的视窗(23A、23B、23C);以及电子束柱(17),所述电子束柱(17)用于生成电子束并且通过所述腔室(12)将所述束传输到所述区域(13)用于作用在易熔粉末材料、特别是金属材料的连续层(16)上,以由其产生物品(15)。为对抗作为具有低于所述材料的熔点的沸点的气相组成从所述层逸出的金属材料在所述视窗上的沉积的问题,所述设备另外包括:光学元件(26A、26B、26C),所述光学元件(26A、26B、26C)布置在所述腔室(13)中以拦截此类所释放的气相组成,所述气相组成在真空环境中在所述腔室中沿着所述区域和所述视窗之间的光学路径行进;以及加热装置(27A、27B、27C),所述加热装置(27A、27B、27C)用于将所述光学元件加热到基本上防止所拦截组成在其上冷凝的温度。
搜索关键词: 腔室 光学元件 加层 视窗 金属材料 电子束柱 加热装置 制造设备 壳体 电子束 拦截 熔点 粉末材料 光学路径 过程监测 真空环境 真空腔室 连续层 冷凝 沸点 界定 易熔 逸出 沉积 加热 行进 传输 释放 对抗 监测 制造
【主权项】:
1.一种加层制造设备,包括:壳体,所述壳体界定真空腔室并且具有视窗,所述视窗用于监测所述腔室的待执行加层制造的区域,电子束生成和传输装置,所述电子束生成和传输装置用于生成电子束并且通过所述腔室将所述束传输到所述区域,用于作用在易熔粉末材料的连续层上,以便由其产生物品,光学元件,所述光学元件布置在所述腔室中,以便拦截沿着所述区域和所述视窗之间的光学路径行进的所述材料的所释放气相组成,以及加热装置,所述加热装置用于将所述光学元件加热到基本上防止所拦截的组成在其上冷凝的温度。
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