[发明专利]用于测量衬底上的结构的方法和设备

摘要

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。随着使用数目增加的具体材料沉积到衬底上的层的数目增加，变得越来越难以准确地检测对准标记，这部分地是由于在一个或更多个层中使用的一种或更多种材料对于用于检测对准标记的辐射是完全或部分不透明的。在第一步骤中，用激发辐射照射衬底。在第二步骤中，以适当的方式测量与由埋入的结构散射的反射材料效应相关联的至少一种效应。在一个示例中，该效应可以包括衬底表面的物理移位。在第三步骤中，基于所测量的效应导出所述结构的至少一个特性。

主权项

1.一种用于测量衬底上的结构的方法，所述结构位于沉积在所述衬底上的至少一个层下方，所述方法包括：在激发时间用激发辐射照射衬底的激发区域，其中激发辐射引起材料效应以与衬底相互作用，并且其中激发辐射在衬底的表面上形成空间图案；测量与由所述结构散射的散射材料效应相关联的至少一种效应；以及基于所测量的至少一种效应导出所述结构的至少一个特性。