[发明专利]III-V族化合物半导体基板和带有外延层的III-V族化合物半导体基板有效

专利信息
申请号: 201880009481.9 申请日: 2018-05-01
公开(公告)号: CN110234801B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 藤原新也;三好知顕 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B29/42
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;牛嵩林
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种作为III‑V族化合物半导体基板的磷化铟基板,其在主表面上以0.22个粒子/cm2以下的量包含粒度为0.19μm以上的粒子或者以20个粒子/cm2以下的量包含粒度为0.079μm以上的粒子。一种作为带有外延层的III‑V族化合物半导体基板的带有外延层的InP基板,其包含上述InP基板和设置在所述InP基板的主表面上的外延层,并且在所述外延层具有0.3μm的厚度的情况下在主表面上以10个缺陷/cm2以下的量包含圆当量直径为0.24μm以上的LPD或者以30个缺陷/cm2以下的量包含圆当量直径为0.136μm以上的LPD。由此,提供一种III‑V族化合物半导体基板和一种带有外延层的III‑V族化合物半导体基板,所述III‑V族化合物半导体基板和所述带有外延层的III‑V族化合物半导体基板能够减少生长在主表面上的外延层的缺陷。
搜索关键词: iii 化合物 半导体 带有 外延
【主权项】:
1.一种III‑V族化合物半导体基板,所述III‑V族化合物半导体基板为磷化铟基板,其中,所述III‑V族化合物半导体基板在主表面上以0.22个粒子/cm2以下的量包含粒度为0.19μm以上的粒子。
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