[发明专利]液晶面板的图案的形成方法以及形成有该图案的基板和掩模基板在审
| 申请号： | 201880009592.X | 申请日： | 2018-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN110268313A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 秋素英;李镇洙;许殷奎;辛富建 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李琳;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，包括由此形成的图案的液晶取向基板以及用于形成图案的掩模基板。通过在顶点双稳态液晶面板的液晶取向膜上形成非对称图案，在施加电压后，即使在零电位下也保持液晶方向，因此该图案的形成方法能够防止或最小化不必要的功耗。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 液晶面板 顶点双稳态 掩模基板 液晶取向 基板 非对称图案 液晶取向膜 施加电压 液晶方向 零电位 最小化 功耗 | ||
【主权项】：
1.一种顶点双稳态液晶面板的液晶取向的图案的形成方法，所述方法包括：(a)在硅基板上沉积硅基化合物；(b)通过使用压印在沉积的硅基化合物层的上部上形成引导图案；(c)通过干蚀刻将图案从形成的所述引导图案转印到所述硅基化合物层上从而不连续地暴露所述硅基板；(d)通过湿蚀刻在所述硅基板上形成非对称形式的图案；(e)去除剩余的所述硅基化合物层，然后对所述硅基板的图案表面进行疏水处理；以及(f)通过使经表面处理的所述硅基板面对玻璃基板并在所述硅基板和所述玻璃基板之间提供电介质，将非对称形式的图案转印到所述玻璃基板上。
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