[发明专利]用于测量衬底及膜厚度分布的系统及方法有效

专利信息
申请号: 201880009926.3 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN110312911B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 陈登鹏;A·曾 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: G01B11/30 分类号: G01B11/30;G01B11/06;G01B9/02
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本系统包含经配置以测量跨衬底的平坦度的双干涉仪子系统。所述系统包含经配置以测量所述衬底的质量的质量传感器。所述系统包含通信地耦合到所述双干涉仪子系统及所述质量传感器的控制器。所述控制器包含一或多个处理器。所述一或多个处理器经配置以执行存储在存储器中的一组程序指令,所述一组程序指令经配置以致使所述一或多个处理器基于来自所述双干涉仪子系统的一或多个平坦度测量及来自所述质量传感器的一或多个质量测量确定依据跨所述衬底的位置而变的所述衬底或沉积在所述衬底上的膜中的至少一者的厚度分布。
搜索关键词: 用于 测量 衬底 厚度 分布 系统 方法
【主权项】:
1.一种系统,其包括:双干涉仪子系统,其经配置以测量跨衬底的平坦度;质量传感器,其经配置以测量所述衬底的质量;及控制器,其通信地耦合到所述双干涉仪子系统及所述质量传感器,所述控制器包含一或多个处理器,其中所述一或多个处理器经配置以执行存储在存储器中的一组程序指令,所述一组程序指令经配置以致使所述一或多个处理器基于来自所述双干涉仪子系统的一或多个平坦度测量及来自所述质量传感器的一或多个质量测量确定依据跨所述衬底的位置而变的所述衬底或沉积在所述衬底上的膜中的至少一者的厚度分布。
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