[发明专利]清洗制剂在审
| 申请号： | 201880010158.3 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110249041A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | E·A·克内尔;杉岛泰雄 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C11D11/00 | 分类号： | C11D11/00;C11D7/26;C11D7/32 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 艾佳 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及清洗组合物，其包含：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、水溶性砜及水溶性醚组成的组；3)至少一种含硼化合物，所述含硼化合物选自由硼酸、硼酸化物及其盐组成的组；及4)水。 | ||
| 搜索关键词： | 含硼化合物 有机溶剂 清洗组合物 氧化还原剂 硼酸化物 清洗制剂 水溶性醇 水溶性醚 水溶性酮 水溶性酯 自由硼酸 自由 | ||
【主权项】：
1.一种清洗组合物，包含：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、水溶性砜及水溶性醚组成的组；3)至少一种含硼化合物，所述含硼化合物选自由硼酸、硼酸化物及其盐组成的组；及4)水。
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