[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的对准方法及蒸镀掩膜固定装置在审
| 申请号： | 201880011467.2 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110291220A | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 成谷元嗣;武田笃 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟;闫剑平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 减少在基板上形成图案时所使用的掩膜中的、所形成的图案的位置偏移。将包含形成有规定图案的多个图案部的蒸镀掩膜(20)向框架(30)固定的蒸镀掩膜的对准方法包含以下步骤：第1对准步骤(S3)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第1基准标记(101)和形成在所述蒸镀掩膜的缘部的第1对准标记(201)的第1偏移量，对所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行对准；以及第2对准步骤(S5)，基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第2基准标记(102)和形成在所述图案部的外周部的第2对准标记(202)的第2偏移量，对通过所述第1对准步骤进行了对准的所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行再对准。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜 蒸镀 对准 对准标记 基准标记 偏移量 图案部 图案 对位 固定装置 位置偏移 固定的 外周部 基板 缘部 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀掩膜，其包含形成有规定图案的多个图案部，所述蒸镀掩膜的特征在于，在所述蒸镀掩膜的缘部设有第1对准标记，在所述图案部的外周部设有相对于所述第1对准标记位于内侧的第2对准标记。
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