[发明专利]包括交联的碳纳米结构的薄膜衬底和相关方法在审

专利信息
申请号: 201880011486.5 申请日: 2018-01-11
公开(公告)号: CN110312680A 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 达里尔·N·文图拉;罗斯特拉夫·多洛格;桑卡兰·穆鲁格桑;拉迪卡·苏雷什;瓦莱里·N·卡巴舍什库;库塞·达鲁加 申请(专利权)人: 通用电气(GE)贝克休斯有限责任公司
主分类号: C01B32/168 分类号: C01B32/168;G01J3/44
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种制造薄膜衬底的方法涉及将碳纳米结构暴露于交联物以使所述碳纳米结构交联。回收所述交联的碳纳米结构并将其安置在支撑衬底上。一种薄膜衬底包括支撑衬底上的交联的碳纳米结构。所述交联的碳纳米结构在碳纳米结构之间具有交联物。一种对表面增强拉曼光谱(SERS)活性分析物执行SERS的方法涉及:在这种薄膜衬底上提供SERS活性分析物;将所述薄膜衬底暴露于拉曼散射;以及检测所述SERS活性分析物。
搜索关键词: 碳纳米结构 衬底 交联 薄膜 分析物 交联物 表面增强拉曼光谱 活性分析物 拉曼散射 暴露 支撑 回收 安置 检测 制造
【主权项】:
1.一种制造薄膜衬底的方法,所述方法包括:将碳纳米结构暴露于交联物以使所述碳纳米结构交联;回收所述交联的碳纳米结构;以及将所述交联的碳纳米结构安置在支撑衬底上。
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