[发明专利]通过FZ法提拉单晶的方法和设备有效
申请号: | 201880011591.9 | 申请日: | 2018-02-13 |
公开(公告)号: | CN110291231B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | T·施勒克 | 申请(专利权)人: | 硅电子股份公司 |
主分类号: | C30B13/20 | 分类号: | C30B13/20;C30B13/28;C30B13/30;C30B13/32;C30B29/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及通过FZ法提拉单晶的方法,其中借助于电磁熔化装置熔化多晶(100),然后使其再结晶,其中在第一阶段中,借助于所述熔化装置熔化所述多晶(100)的下端,其中在第二阶段中,使单晶晶种(140)附着至所述多晶(100)的所述下端,并从所述晶种(140)的上端开始熔化,其中在第三阶段中,在所述晶种(140)的下区段和所述多晶(100)之间,形成直径(d |
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搜索关键词: | 通过 fz 法提拉单晶 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种通过FZ法提拉单晶(150)的方法,其中借助于电磁熔化装置(300)熔化多晶(100),然后使其再结晶,其中在第一阶段(P1)中,借助于所述熔化装置(300)熔化所述多晶(100)的下端,其中在第二阶段(P2)中,使单晶晶种(140)附着至所述多晶(100)的所述下端,并从所述晶种(140)的上端开始熔化,其中在第三阶段(P3)中,在所述晶种(140)的下区段和所述多晶(100)之间,形成直径(dD)小于所述晶种(140)的直径(dI)的细颈区段(130),并且其中在第四阶段(P4)中,在所述细颈区段(130)和所述多晶(100)之间,形成所述单晶的锥形区段(135),其中,在达到所述第四阶段(P4)之前,确定所述多晶(100)的转换位置(h'),其是所述多晶(100)相对于所述熔化装置(300)移动的速率在量上将要降低的位置,并且其中在所述第四阶段(P4)中,当达到所述转换位置(h')时,所述多晶(100)相对于所述熔化装置(300)移动的所述速率在量上降低。
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