[发明专利]自动分析装置和自动分析装置中的清洗机构有效
申请号: | 201880011677.1 | 申请日: | 2018-02-15 |
公开(公告)号: | CN110291405B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 盐谷圭;饭岛昌彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N35/02 | 分类号: | G01N35/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 万捷;张鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 由于在清洗重复使用的反应容器内时,与为接下来分析而吸取所有清洗液的清洗头接触而损伤反应容器的内壁,可能对分析结果造成影响。本发明提供一种装置及该装置的反应容器清洗装置,该装置包括:保持反应容器的反应盘;将试料分注到所述反应容器的试料分注机构;将试剂分注到所述反应容器的试剂分注机构;光学系统,该光学系统具备将光照射到分注至该反应容器的试料与试剂的混合液的光源以及检测从该光源照射的光的检测器;以及清洗该反应容器的清洗机构,所述清洗机构包括:将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴;吸引被提供的该清洗液的清洗液吸引喷嘴;以及设置于所述清洗液吸引喷嘴的下端的清洗头,所述清洗头的侧面形成为在将所述清洗头插入到所述反应容器的状态下,至少在与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面上、与测光范围重叠的范围、或比该测光范围更大的范围中,越朝下方宽度越小,该测光范围是从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围。 | ||
搜索关键词: | 自动 分析 装置 中的 清洗 机构 | ||
【主权项】:
1.一种自动分析装置,包括:保持反应容器的反应盘;将试料分注到所述反应容器的试料分注机构;将试剂分注到所述反应容器的试剂分注机构;光学系统,该光学系统具备:将光照射到分注至该反应容器的试料与试剂的混合液的光源以及检测从该光源照射的光的检测器;以及清洗该反应容器的清洗机构,该自动分析装置基于由该检测器检测到的光分析所述试料,其特征在于,所述清洗机构包括:将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴;吸引被提供的该清洗液的清洗液吸引喷嘴;以及设置于所述清洗液吸引喷嘴的下端的清洗头,所述清洗头的侧面形成为在将所述清洗头插入到所述反应容器的状态下,至少在与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面上、与测光范围重叠的范围、或比该测光范围更大的范围中,越朝下方宽度越小,该测光范围是从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围。
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