[发明专利]用于监测光刻制造过程的方法和设备有效
| 申请号： | 201880012504.1 | 申请日： | 2018-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN110300929B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | E·P·施密特-威尔;K·巴塔查里亚;W·T·特尔;弗兰克·斯塔尔斯;L·M·勒瓦斯尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01N21/93 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于监测光刻过程的方法和相关联的光刻设备。所述方法包括：获得与由衬底支撑件支撑的衬底相关的高度变化数据，和通过所述高度变化数据拟合回归，所述回归近似于所述衬底的形状；确定所述高度变化数据和所述回归之间的残差数据；和监测所述残差数据随时间的变化。可以基于衬底支撑件的已知特征对所述残差数据去卷积。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监测 光刻 制造 过程 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于监测光刻过程的方法，包括：获得与由衬底支撑件支撑的衬底相关的高度变化数据；通过所述高度变化数据拟合回归，所述回归近似所述衬底的形状；确定表示所述高度变化数据和所述回归之间的差的残差数据；和监测所述残差数据随时间的变化。
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