[发明专利]蚀刻偏差表征及其使用方法有效
| 申请号： | 201880014016.4 | 申请日： | 2018-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN110325924B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 范永发;郑雷武;冯牧;赵谦;王祯祥 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法涉及：基于蚀刻偏差模型确定待使用图案化过程的蚀刻步骤蚀刻的图案的蚀刻偏差，所述蚀刻偏差模型包括公式，所述公式包括：与图案的空间属性关联的变量或与蚀刻步骤的蚀刻等离子体物种浓度关联的变量，和包括与参数的幂拟合的或基于蚀刻步骤的蚀刻时间的自然指数函数的数学项；和基于所确定的蚀刻偏差调整图案化过程。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 偏差 表征 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：通过硬件计算机，基于蚀刻偏差模型确定待使用图案化过程的蚀刻步骤蚀刻的图案的蚀刻偏差，所述蚀刻偏差模型包括公式，所述公式包括：与所述图案的空间属性关联的变量或与所述蚀刻步骤的蚀刻等离子体物种浓度关联的变量，和包括与参数的幂拟合的或基于所述蚀刻步骤的蚀刻时间的自然指数函数的数学项；和基于所确定的蚀刻偏差调整所述图案化过程。
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