[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层有效
| 申请号： | 201880015078.7 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN110383168B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;C·弗莱肯斯坦 | 申请（专利权）人： | 分子印记公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 牛晓玲;吴鹏 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种配置光学层的压印光刻方法，包括以这样的方式在衬底的一面的顶部上沉积一组液滴，即该组液滴不接触形成在衬底上的功能图案。该压印光刻方法还包括固化该组液滴以形成间隔层，该间隔层与衬底的所述一面相关联且具有选择为使得该间隔层可以支承与衬底相邻并且在与功能图案间隔开的位置处跨越该组液滴的表面的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 工艺 配置 光学 | ||
【主权项】：
1.一种配置光学层的压印光刻方法，所述压印光刻方法包括：以这样的方式在衬底的一面的顶部上沉积一组液滴，即所述一组液滴不接触形成在所述衬底上的功能图案；以及固化所述一组液滴以形成间隔层，所述间隔层与所述衬底的所述一面相关联且具有选择为使得所述间隔层能够支承一表面的高度，所述表面与所述衬底相邻并且在与所述功能图案间隔开的位置处跨越所述一组液滴。
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