[发明专利]通过等离子体蚀刻的高折射率玻璃的图案化

摘要

本文提供了用于在高折射率玻璃基板中形成例如用作波导的图案的等离子体蚀刻方法。该基板可以由具有大于或等于约1.65的折射率且具有小于约50wt％的SiO2的玻璃形成。等离子体蚀刻方法可以包括化学和物理蚀刻组分。在一些实施例中，等离子体蚀刻方法可以包括：在高折射率玻璃基板的至少一部分上形成图案化的掩模层，以及将掩模层和高折射率玻璃基板暴露于等离子体以从基板的暴露部分去除高折射率玻璃。随后从高折射率玻璃基板去除任何剩余的掩模层。玻璃的去除在高折射率玻璃基板中形成例如衍射光栅的期望的图案化结构。

主权项

1.一种用于在波导中形成一个或多个衍射光栅的方法，所述方法包括：提供具有大于或等于约1.65的折射率的波导，其中所述波导中的大于50wt％由B₂O₃、Al₂O₃、ZrO₂、Li₂O、Na₂O、K₂O、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、La₂O₃、Nb₂O₅、TiO₂、HfO和Sb₂O₃中的一种或多种形成；在所述波导之上提供掩模层，所述掩模层具有与所述一个或多个衍射光栅对应的图案，所述图案选择性地暴露所述波导的部分；以及各向异性地蚀刻所述波导的所述暴露部分以在所述波导中限定所述一个或多个衍射光栅。