[发明专利]光刻装置及方法有效
| 申请号： | 201880017103.5 | 申请日： | 2018-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN110419004B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 周畅;杨志勇;马琳琳 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻装置及方法，光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置，其中：基板装置包括一基板台(10)和一基板(7)，基板台(10)承载基板(7)；至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在基板(7)上方，同时在基板(7)上形成两个曝光场，对曝光场内基板(7)进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
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