[发明专利]使用电润湿元件清洁表面的装置及其控制方法有效
| 申请号： | 201880017508.9 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN110392921B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 金元洙;权圣斗;池石万;洪三悦 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 达小丽;夏凯 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于清洁物体表面的装置，包括：衬底，其被设置在物体表面上；多个电极，其被设置在衬底上；电介质层，其被设置在衬底上以覆盖电极；以及控制装置，该控制装置向电极供应交流(AC)电力包括在第一时间段期间向电极供应具有预定第一频率和预定第一电压的第一AC电力，以通过在电极处生成的静电力的周期性变化来使物体的表面上的液滴振动，第一频率被设置为液滴的谐振频率。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 润湿 元件 清洁 表面 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁物体的表面的装置，包括：衬底，所述衬底被配置成设置在所述物体的表面上；多个电极，所述多个电极被设置在所述衬底上；电介质层，所述电介质层被设置在所述衬底上以覆盖所述电极；以及控制装置，所述控制装置被配置为向所述电极供应交流(AC)电力，其中，向所述电极供应所述AC电力包括：在第一时间段期间向所述电极供应具有预定第一频率和预定第一电压的第一AC电力，以通过在所述电极处生成的静电力的周期性变化来使所述物体的表面上的液滴振动，以及其中，所述第一频率被设置为所述液滴的谐振频率。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
