[发明专利]宽带全向聚合物抗反射涂层有效

专利信息
申请号: 201880018752.7 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN110431121B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 王保民;N·C·吉本克 申请(专利权)人: 宾州研究基金会
主分类号: C03C17/28 分类号: C03C17/28;G02B1/111
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 丁靄迪;翟羽
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 使用沉积工艺和/或溶解工艺产生用于聚合物基底的抗反射涂层的方法可以在基底的外表面上提供涂层。一些实施例可包括在基底上通过GLAD产生的含氟聚合物涂层或共蒸发的含氟聚合物涂层,其可实现聚合物基底的超低折射率以及改善的粘合性和耐久性。在一些实施例中,进行沉积工艺使得可以蒸发含氟聚合物以形成含氟聚合物的链片段。扩散到基底中的链片段随后可以再聚合,从而与基底的聚合物链互锁。在一些实施例中,共蒸发工艺可以形成含氟聚合物的纳米多孔聚合物链支架,牺牲材料可以从该支架中溶出。形成的涂层可以是多层或连续渐变的抗反射涂层,其与基底具有强粘合性。
搜索关键词: 宽带 全向 聚合物 反射 涂层
【主权项】:
1.一种产生抗反射涂层的方法,所述方法包括:经由沉积工艺在聚合物基底的表面上形成涂层,在所述基底的表面上形成涂层,使得:在涂层材料汽化期间,涂层材料汽化以形成涂层材料的链片段,所述汽化的链片随后扩散到所述聚合物基底的表面中、随着所述链片段的层施加到所述基底的表面上而深入到所述基底的表面一定深度,扩散到所述基底中的链片段随后再聚合以与所述基底的聚合物链互锁。
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