[发明专利]用于沉积含硅薄膜的组合物及使用其制造含硅薄膜的方法有效
| 申请号： | 201880019561.2 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN110431192B | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 金成基;朴廷主;朴重进;张世珍;杨炳日;李相道;李三东;李相益;金铭云 | 申请（专利权）人： | DNF有限公司 |
| 主分类号： | C09D4/00 | 分类号： | C09D4/00;H01L21/02;H01L21/324 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 金相允;刘明 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了含有甲硅烷基胺化合物的组合物及使用其制造含硅薄膜的方法，且更具体地，提供了用于沉积含硅薄膜的含有甲硅烷基胺化合物的组合物，该甲硅烷基胺化合物能够形成具有显著优异的水蒸气穿透率的含硅薄膜从而有用地用作含硅薄膜的前体和显示器的密封剂，以及使用该组合物制造含硅薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 薄膜 组合 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积含硅薄膜的组合物，所述组合物包含由以下化学式1表示的甲硅烷基胺化合物：[化学式1]![]()
在化学式1中，R1至R4各自独立地为氢、C1‑C7烷基或C2‑C7烯基，或R1和R2以及R3和R4各自独立地相互连接形成环；以及R5和R6各自独立地为C1‑C7烷基或C2‑C7)烯基。
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